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一种光刻机工件台运动控制方法

摘要

本发明提供了一种光刻机工件台运动控制方法,包括如下步骤:(S1)将光刻机工件台的运动伺服系统设置成三环PID控制结构;(S2)在所述三环PID控制结构中引入双前馈以实现对所述运动伺服系统的控制。本发明降低了控制运动伺服系统设计难度的同时也降低了运动伺服系统的建模难度,并且会对扰动带来的模型不确定性进行跟踪,减小了稳态跟踪误差,提高了定位精度与跟踪精度,不仅使运动伺服系统可以保证稳定性和相应的快速性,还使运动伺服系统的输出轨迹和速度在任何时刻都可以最大程度地复现规划轨迹和规划速度。本发明方法灵活,易于控制,具有很强的推广价值和实用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN109358492A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201811282667.X

  • 申请日2018-10-31

  • 分类号G05B11/42(20060101);

  • 代理机构51229 成都正华专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈选中

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2024-02-19 06:50:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G05B11/42 申请日:20181031

    实质审查的生效

  • 2019-02-19

    公开

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