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反射式光掩模及其制作方法

摘要

本发明实施例提供一种制作掩模底版的方法包括在衬底的上方沉积反射性多层;在所述反射性多层的上方沉积顶盖层;在所述顶盖层的上方沉积吸收体层;以及在所述吸收体层的上方沉积减反射涂布层。所述减反射涂布层是单一材料膜。

著录项

  • 公开/公告号CN109426065A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201711085885.X

  • 发明设计人 陈俊郎;涂志强;

    申请日2017-11-07

  • 分类号

  • 代理机构南京正联知识产权代理有限公司;

  • 代理人顾伯兴

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号

  • 入库时间 2024-02-19 06:47:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/24 申请日:20171107

    实质审查的生效

  • 2019-03-05

    公开

    公开

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