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提升硅纳米线气敏性能的改性方法及其气敏传感器

摘要

本发明公开提升硅纳米线气敏性能的改性方法及其气敏传感器,首先使用氢氟酸水溶液进行硅片表面改性,再进行金属辅助化学刻蚀硅纳米线,最后制作双顶点电极形成气敏传感器。本发明通过氢氟酸水溶液处理使得形成顶端聚合结构的多孔性硅纳米线气敏传感器,在双顶点电极间形成了更多条导电通路,使更多的多孔性硅纳米线参与气敏反应,进而在室温下检测超低浓度的氮氧化物气体,具有高灵敏度、良好选择性的优点。该方法具有设备简单、操作方便、可重复性好、成本低廉等优点,可以更好的实现工业化生产。

著录项

  • 公开/公告号CN109425637A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201710787360.4

  • 申请日2017-09-04

  • 分类号G01N27/00(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y15/00(20110101);

  • 代理机构12214 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王秀奎

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2024-02-19 06:45:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N27/00 申请日:20170904

    实质审查的生效

  • 2019-03-05

    公开

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