一种土曲霉SKL-001新次级代谢产物LW-4

摘要

本发明公开了一种土曲霉SKL‑001新次级代谢产物LW‑4，具有如下结构：其中，R1、R2各自独立地为H、OH、C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷基磺酰基、C2‑C4烷基酰基，且R1、R2中有一个为H；R3、R4各自独立地为H、OH、卤素、氨基、C1‑C4烷基、C2‑C4烷基酰基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷基磺酰基、C2‑C4烯基、且R3、R4中至少有一个不为H。其制备方法包括向培养基中添加表观遗传修饰调控剂SAHA、帕立骨化醇、甘油三酯，静置发酵培养。有益效果为：本发明在培养基中添加表观遗传修饰调控剂SAHA，对土曲霉SKL‑001进行表观修饰，促进其产生多样化的次级代谢产物，从而分离得到一种新的次级代谢产物LW‑4；本发明土曲霉SKL‑001新次级代谢产物LW‑4及其立体异构体或药学上可接触的盐，具有长效抑菌抗炎作用。