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减少存储器阵列边缘CMP凹陷效应的集成芯片及其形成方法

摘要

在一些实施例中,本发明涉及一种集成芯片。该集成芯片包括:逻辑区,具有设置在衬底内的多个晶体管器件;嵌入式存储器区,具有设置在衬底内的多个存储器件;以及边界区,将逻辑区与嵌入式存储器区分开。边界区包括第一隔离结构,其中,第一隔离结构具有第一上表面和位于第一上表面下面的第二上表面。通过位于第一隔离结构上方的内侧壁连接第一上表面和第二上表面。边界区还包括:存储器壁,布置在第二上表面上并围绕嵌入式存储器区;以及逻辑壁,布置在第一上表面上并围绕存储器壁。逻辑壁具有位于多个存储器件和存储器壁之上的上表面。本发明的实施例还提供了集成芯片的形成方法。

著录项

  • 公开/公告号CN109309093A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201810835371.X

  • 发明设计人 吴伟成;张健宏;

    申请日2018-07-26

  • 分类号H01L27/115(20170101);H01L27/02(20060101);H01L21/822(20060101);

  • 代理机构11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司;

  • 代理人章社杲;李伟

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2024-02-19 06:42:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20180726

    实质审查的生效

  • 2019-02-05

    公开

    公开

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