Light Trapping Structures Based On UV Soft Nanoimprint Lithography

摘要

摘要 随着科技的进步，很多器件在微纳尺寸下展现出很多与大块材料不同的性质，而这些性质中有很多具有很强的应用前景，这推动了微纳器件的加工方法的提高与性质的研究。 本文的第一章与第二章简单介绍了常见的纳米加工方法，包括电子束光刻（EBL）、微纳自组装法及纳米压印技术。通过分析各种加工方法的优劣，介绍了纳米压印技术的优势：它可以在保证加工精度较高同时又能降低其生产成本，而这两个优点为纳米压印的工业化做了很好的铺垫。在第二章中，通过对常见的三种纳米压印技术做出分析，并结合现有的设备，对纳米压印技术进行了相应的改进，并详细的介绍了纳米压印的各个加工步骤及需要注意的地方。 本文的第三章与第四章，是利...