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Epitaxial Growth and Band Structure of Te Film on Graphene

机译:石墨烯上Te膜的外延生长和能带结构

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摘要

Tellurium (Te) films with monolayer and few-layer thickness are obtained bymolecular beam epitaxy on a graphene/6H-SiC(0001) substrate and investigated byin situ scanning tunneling microscopy and spectroscopy (STM/STS). We revealthat the Te films are composed of parallel-arranged helical Te chainsflat-lying on the graphene surface, exposing the (1x1) facet of (10-10) of thebulk crystal. The band gap of Te films increases monotonically with decreasingthickness, reaching ~0.92 eV for the monolayer Te. An explicit band bending atthe edge between the monolayer Te and graphene substrate is visualized. Withthe thickness controlled in atomic scale, Te films show potential applicationsof in electronics and optoelectronics.
机译:通过分子束外延在石墨烯/ 6H-SiC(0001)衬底上获得单层和几层厚度的碲(Te)薄膜,并通过原位扫描隧道显微镜和光谱法(STM / STS)进行研究。我们发现,Te薄膜由平整排列在石墨烯表面上的平行排列的螺旋Te链组成,露出了大块晶体(10-10)的(1x1)小面。 Te薄膜的带隙随着厚度的减小而单调增加,单层Te达到〜0.92 eV。可视化了在单层Te和石墨烯衬底之间的边缘处的明显带弯曲。通过控制原子尺度的厚度,Te膜在电子和光电子领域显示出潜在的应用。

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