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【2h】

Preliminary Investigation of High-K Materials –Tio2 Doped Ta2o5 Films by Remote Plasma Ald

机译：远程等离子体Ald对高K材料掺杂TiO2的Ta2o5薄膜的初步研究

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Fang Q.; Hodson C.; Liu M.; Fang Z.W.; Potter R.; Gunn R.;
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年度 2012
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