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US0065025A1: Cleaning of Plasma Chamber Walls Using Noble Gas Cleaning Step

机译：US0065025A1：使用稀有气体清洁步骤清洁等离子室壁

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United States patent application number US2009/0065025

机译：美国专利申请号US2009 / 0065025

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作者
Urbanowicz Adam; Baklanov Mikhail; Shamiryan Denis; De Gendt Stefan;
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作者单位

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年度 2009
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