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【2h】

US0065025A1: Cleaning of Plasma Chamber Walls Using Noble Gas Cleaning Step

机译:US0065025A1:使用稀有气体清洁步骤清洁等离子室壁

摘要

United States patent application number US2009/0065025
机译:美国专利申请号US2009 / 0065025

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