机译:等离子体碳倾斜角度对碳涂层表面电容和形态学的影响
机译:温度处理和碳添加对碳衬底上钼层的表面形态和表面能的影响
机译:通过远程氢等离子体化学气相沉积使用氨基硅烷和硅烷前体制备的硬硅碳氮化型薄膜涂层。 1:沉积机构,化学结构和表面形态
机译:碳气氛对多热处理TiO_2涂层表面形貌和光催化活性的影响
机译:基板空间取向对脉冲等离子体流沉积非晶碳涂层性能的影响
机译:I.在不导电基底的表面上涂覆导电聚合物膜。二。在二氧化碳压力下芳族醇的羧化。三,对二甲苯的低温相转移催化自氧化,用于生产对苯二甲酸。
机译:基体加热和氮气流量对旨在替代接头的SiNx涂层的组成形貌和力学性能的影响
机译:表面粗糙度和搅拌对碳钢衬底上电沉积磁铁矿薄膜形貌的影响