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【2h】

Low-Temperature (111) Oriented ZrO2 Film Deposition Using Mode-Converted Micromove Plasma MOCVD.

机译：使用模式转换的微腔等离子体MOCVD取向低温（111）取向ZrO2膜沉积。

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Yosuke KOMATSU; Shigeru ITO; Kazuo AKASHI;
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年度 1998
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