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机译:植入层ARF光致抗蚀剂的设计与开发
Youngsoo Yang; Jun Ho Lee; Tae Ho Kim; Seung Jib Choi; Sang Jun Choi; Tuwon Chang; Seongjune Kim; Dongwon Kim; Hyereun Kim; Youngho Kim; Sung-Ki Chae; Jae Hyun Kim;
机译:植入层ArF光刻胶的设计与开发
机译:XTC光刻工艺的ArF光刻胶的设计与开发
机译:基于碱性显影性ROMP-H树脂的ARF单层光致抗蚀剂
机译:真空紫外定向设计,157 nm光刻胶材料的合成与开发
机译:多层神经引导导管设计适合于手术植入
机译:XTC光刻工艺ARF光刻胶的设计与开发
机译:高级Hg(1) - (x)Cd(x)Te EpI层中的直接注入工艺开发和表征。
机译:季铵化合物,包含它们的光刻胶处理溶液以及光刻胶层显影和剥离的方法
机译:压电基层上光刻胶的最终显影方法
机译:在底层显影之后重新加工多层光致抗蚀剂的方法
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