机译:X射线荧光法测定两层薄膜Ti / Ge和Ni / Ge体系的吸质系数。
机译:使用可调单色X射线源测量的Ti,V,Fe,Co,Ni,Cu和Zn的质量衰减系数在3.8≤E≤11 keV的范围内,K荧光产量和K_β/K_α相对X射线发射率
机译:Ti和Ni合金的质量衰减系数,有效原子数和电子数
机译:通过Ti-15Cu-15Ni和Ag-26.7Cu-4.5ti填充箔钎焊,加强Ti-6ai-4V关节的溶液
机译:用于无传感器执行器位置控制的Ni-Ti和Ni-Ti-Cu形状记忆合金的应力-应变-电阻行为建模。
机译:具有高低温形状记忆效应的Ti–NiNi–Mn–Ga和Cu–Al–Ni基合金的设计与开发
机译:用于Cu L I>α线的Al,Cr,Ni,Zn,Se,Zr,Sn,Sb,Gd,Au,Pb和Bi的测定
机译:弹性微分有效截面和非弹性得到了44兆电子伏的释放颗粒αON TaRGET:为24mg,25毫克,26mG,40Ca,46Ti,48Ti,50Ti,52Cr,54Fe,的56Fe,58Fe,58Ni,60Ni,62NI,64Ni, 63Cu,65Cu,64Zn,112sn,114sn,116s