机译:纯CH {sub} 4沉积方法结合离子束辅助沉积和等离子增强化学气相沉积,改善了碳膜覆盖的不锈钢和碳化钨基底的磨损
机译:静电喷涂沉积致密Gd_(0.1)Ce_(0.9)O_(1.95)电解质薄膜的低温简便方法:溶剂比例和沉积温度的影响
机译:催化剂沉积方法对低压化学气相沉积法生长碳纳米管取向的影响
机译:沉积方法对生长形貌的影响-分子束外延,离子束辅助沉积和溅射沉积的比较
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:Au / CeO2固体上丙烯甲苯一氧化碳和炭黑的催化氧化:比较浸渍法和沉积沉淀法
机译:CIs薄层的液相沉积:最终报告,2003年2月 - 2005年7月
机译:卤化物电解质中锌电沉积的粗糙度演变和枝晶生长。总结报告