Extreme ultraviolet radiation; Ultraviolet radiation; Reflective coatings; Optical systems; Reflectivity; Lithography;
机译:使用共振边缘附近的掠入射极端紫外反射法分析多层镜中的掩埋界面
机译:X射线和极端紫外线涂层的特殊部分
机译:Pd / B4C / Y多层涂层,用于10 nm波长附近的极端紫外线应用
机译:高精度多层涂层和EUV光刻光学器件的反射测量
机译:钼/硅多层镜中的应力演化,用于极端紫外光刻。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:窄带多层涂料,用于50-92 nm的极紫外范围