Annealing; Copper; Crystal Defects; EDB/360101; EDB/360102; EDB/360106; EDB/360202; Films; Laser Radiation; Meetings; Morphology; Radiation Effects; Sapphire; Scanning Electron Microscopy; Sputtering; Substrates; Surface Properties; Transmission Electron Microscopy;
机译:表面近硅衬底性能对溅射沉积AlN薄膜微观结构的影响
机译:表面近硅衬底性能对溅射沉积AIN薄膜微观结构的影响
机译:衬底偏压对溅射沉积碳化钨的相稳定性和性能的影响
机译:基材预沉积退火和沉积参数对RF溅射沉积ZnO膜性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积的氧化钇稳定的氧化锆薄膜的结构和材料性能评估。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:基材材料的影响及其表面粗糙度对Pemalloy薄膜磁性的影响。
机译:盐酸预处理对440C钢表面组成及溅射沉积mos2固体润滑膜的附着力和耐久性的影响。