Gallium arsenides; Gallium antimonides; Flux(Rate); Growth(General); High temperature; Molecular beam epitaxy; Reprints; Substrates; Electron microscopy; Surface properties; Temperature; Electronic scanners;
机译:生长应力对在相邻C面SiC衬底上生长的N极GaN膜表面形貌的影响
机译:AlN缓冲层对在邻近C面SiC衬底上生长的N极GaN膜的表面形态和结构性能的影响
机译:生长应力对在相邻C面SiC衬底上生长的N极GaN膜表面形貌的影响
机译:通过rf-MBE生长的相邻蓝宝石(0001)衬底上的AlGaN膜和AlGaN / GaN异质结构的表面形态
机译:通过热壁化学气相沉积法生长的同质外延4H-碳化硅(1120)薄膜的界面上的多型稳定性,微观结构演变和杂质
机译:表面阶跃阶跃调谐在邻近LaAlO3衬底上的高外延CaCu3Ti4O12薄膜的微观结构和介电性能
机译:同质外延生长的Ag膜中的空位形成及其对表面形貌的影响