Power Electronics Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba-shi, Ibaraki 305-8568, Japan;
机译:通过MOCVD生长的邻近蓝宝石(0001)衬底上的GaN膜和AlGaN / GaN异质结构的表征
机译:用rf-MBE和MOCVD在邻域蓝宝石(0001)衬底上生长的GaN膜的表面形貌比较
机译:通过rf-MBE在邻近蓝宝石(0001)衬底上生长的GaN膜的表面台阶形貌
机译:在邻近衬底上生长的N极性GaN / AlGaN异质结构中的各向异性二维电子气传输
机译:硅薄膜对AlGaN / GaN异质结构表面处理的严格研究。
机译:使用低Al组成的单个AlGaN层在Si衬底上生长高质量和均匀的AlGaN / GaN异质结构
机译:在蓝宝石和6H-SIC基板上通过MOCVD生长的AlGaN / Aln / GaN异质结构中的热电子的能量放松