...
机译:通过rf-MBE在邻近蓝宝石(0001)衬底上生长的GaN膜的表面台阶形貌
Power Electronics Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan;
A1. Surface structure; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Nitride;
机译:用rf-MBE和MOCVD在邻域蓝宝石(0001)衬底上生长的GaN膜的表面形貌比较
机译:通过rf-MBE在邻近蓝宝石(0 001)衬底上生长的GaN膜的表面台阶形貌
机译:RF-MBE对在邻近蓝宝石(0001)衬底上生长的GaN膜和GaN / AlN超晶格结构进行表征
机译:通过rf-MBE生长的相邻蓝宝石(0001)衬底上的AlGaN膜和AlGaN / GaN异质结构的表面形态
机译:通过发光光谱和X射线衍射测定在6H-SiC(0001)衬底上生长的GaN和Al(x)Ga(1-x)N薄膜的应变和组成。
机译:在原始GaN(0001)衬底上生长的GaN / AlN超晶格中应变弛豫的特殊性:XRD和AFM的比较研究
机译:在原始GaN(0001)衬底上生长的GaN / AlN超晶格中应变弛豫的特殊性:XRD和AFM的比较研究