Electrooptics; Semiconductors; Photonic crystals; Broadband; Modulators; Reactive ion etching; Fabrication; Lasers;
机译:通过选择性蚀刻对III-V异质结构纳米线进行集成,形成间隙并使其锐化
机译:通过选择性蚀刻对III-V异质结构纳米线进行集成,形成间隙并使其锐化
机译:用于III-V半导体蚀刻应用的电容耦合射频甲烷/氢等离子体模型
机译:适用于高级电子和光电应用的6.1埃III-V半导体的工程异质结构
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:适用于高级应用的聚合物基板的选择性等离子体蚀刻
机译:通过选择性蚀刻的III-V异质结构纳米线的集成,间隙形成和锐化