Eine einfache zerstörungsfreie Methode zur Messung durchsichtiger dünner Schichten zwischen 10 und 600 nm

摘要

Eine einfache interferometrische Methode zur zerstörungsfreien Messung der Dicke durchsichtiger Schichten zwischen 0,01 und etwa 1 ,um auf reflektierender Unterlage wird beschrieben. Da auffallender und reflektierter Strahl durch das Objektiv eines Auflichtmikroskops geführt werden, kann die zu untersuchende Stelle (etwa 1 mm2 ) direkt auf Sauberkeit und Gleichmäßigkeit geprüft werden. Die Intensität des reflektierten, durch Interferenz mehr oder weniger geschwächten, monochromatischen Lichtes wird mit einem Photowiderstand gemessen, der in den Okular- oder den Phototubus des Mikroskops gesteckt wird. Als Beispiel werden die Reflexionsformeln für Siliciumdioxyd und Siliciumnitrid auf Silicium, sowie für Siliciumdioxyd auf Germanium berechnet und in einer solchen Form in Kurven wiedergegeben, daß die Schichtdicke als Funktion der gemessenen Reflexion direkt abgelesen werden kann. Der Fehler liegt unter 10 nm.