Semiconductors; Silicon carbides; Defects(Materials); Luminescence; Ion bombardment; Doping; Phonons; Annealing; Reprints; Ion implantation;
机译:热退火后离子注入硅中外在缺陷扩展的建模
机译:具有拓扑线缺陷的石墨烯纳米带的局部振动,边缘和呼吸模式
机译:具有拓扑线缺陷的石墨烯纳米带的局部振动,边缘和呼吸模式
机译:硅中氮氧缺陷局部振动模式的第一性原理研究
机译:4H碳化硅外延膜中的薄多型夹杂物以及碳化硅的碳氢振动中心的同位素和非谐效应。
机译:碳化硅的毒理学研究。 2.体外细胞测试和长期注射测试。
机译:离子植入硅中次级缺陷发展的三阶段模型
机译:硅的锂和锂缺陷对的局部振动模式最终报告,1967年7月1日 - 1968年9月30日