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Application of Approximately 100 A Linewidth Structures Fabricated by Shadowing Techniques.

机译：阴影技术制作大约100 a线宽结构的应用。

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作者
Flanders, D. C.; White, A. E.;
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作者单位

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年度 1981
页码 1-6
总页数 6
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类工业技术;
关键词
Ion beams; Etching; Shadows; Fabrication; Silicon; Wafers; Silicon nitrides; Silicon dioxide; Patterns; Reprints; Linewidth structures(Approx 100 angstroms);

机译：离子束;蚀刻;阴影;制造;硅;晶片;氮化硅;二氧化硅;图案;重印;线宽结构（约100埃）;

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