首页> 中国专利> 一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法

一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法

摘要

本发明公开了一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法,首先要根据器件结构要求设计并加工模板,作为压印用的印章;其次,根据器件微纳光学结构的要求,选用合适衬底材料,并覆盖压印胶,之后,采用压印工艺,转移模板上的结构图案,固化成型,待模板与衬底都冷却后,释放模板,得到带有浮雕图形的微纳光学结构;最后,依照器件的设计,在印制纹路上方覆盖聚合物光学束缚层,形成完整的微纳光学结构。本发明可以制备耐候性好,热稳定性强,损耗低的光学器件,并且工艺简单,具有成本优势。

著录项

  • 公开/公告号CN102707378B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-09-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南师范大学;

    申请/专利号CN201210192287.3

  • 申请日2012-06-12

  • 分类号

  • 代理机构广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人江裕强

  • 地址 510275 广东省广州市天河区中山大道西55号

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B6/13 授权公告日:20130904 终止日期:20190612 申请日:20120612

    专利权的终止

  • 2013-09-04

    授权

    授权

  • 2013-09-04

    授权

    授权

  • 2012-11-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B6/13 申请日:20120612

    实质审查的生效

  • 2012-11-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 6/13 申请日:20120612

    实质审查的生效

  • 2012-10-03

    公开

    公开

  • 2012-10-03

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号