Block copolymers; Separation; Surface chemistry; Atomic spectroscopy; Chemical engineering; Electrochemistry; Hydrophobic properties; Lithography; Microelectronics; Polymerization; Self assembled monolayers; Substrates; Synthesis(chemistry); Thin films; X ray scattering; Atrp(atom transfer radical polymerization); Afm(atomic force microscopy); Pe611104a;
机译:基于乳丁内酯基嵌段共聚物的微相分离与亚20nm结构域
机译:基于乳丁内酯基嵌段共聚物的微相分离与亚20nm结构域
机译:通过嵌段共聚物的自组装,通过低于20 nm的硅纳米线进行纳米级神经电极修饰
机译:利用高辛,含硅嵌段共聚物在20 nm以下的图案中减轻缺陷
机译:嵌段数对线性(AB)n多嵌段共聚物的有序转变,粘弹性和剪切取向行为的影响
机译:嵌段共聚物薄膜的晶界诱导取向
机译:嵌段共聚物光刻结合抗蚀剂设计制备高度有序的20 nm以下纳米硅纳米柱