掌桥科研
一站式科研服务平台
学术工具
文档翻译
论文查重
文档转换
收录引用
科技查新
期刊封面封底
自科基金
外文数据库(机构版)
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
其他
>
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
全选(
0
)
清除
导出
1.
Post-Polymerization Modification of PS-b-PMMA for Achieving Directed Self-Assembly with Sub-10 nm Feature Size
机译:
PS-b-PMMA的聚合后修饰,可实现特征尺寸小于10 nm的定向自组装
作者:
Takuya Isono
;
Kohei Yoshida
;
Hiroaki Mamiya
;
Ken Miyagi
;
Akiyoshi Yamazaki
;
Toshifumi Satoh
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
2.
Defect conscious approaches in EUV patterning
机译:
EUV模式中的缺陷意识方法
作者:
Arisa Hara
;
Hidetami Yaegashi
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
3.
Ordered Polymer-Based Spin-On Dopants
机译:
有序的基于聚合物的旋涂掺杂剂
作者:
Bhooshan C. Popere
;
Peter Trefonas
;
Andrew T. Heitsch
;
Mingqi Li
;
Ratchana Limary
;
Megan L. Hoarfrost
;
Kuniharu Takei
;
Victor Ho
;
Ali Javey
;
Yuanyi Zhang
;
Reika Katsumata
;
Rachel A. Segalman
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
4.
Development of novel thick spin-on carbon hardmask
机译:
新型厚旋涂碳硬掩模的研制
作者:
Byeri Yoon
;
Seungwook Shin
;
Youngmin Kim
;
Yumi Heo
;
Soyeon Park
;
Sungho Choi
;
Miyeon Han
;
Sanghak Lim
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
5.
Addressing challenges in the mitigation of stochastic effects
机译:
应对缓解随机效应的挑战
作者:
Hidetami Yaegashi
;
Arisa Hara
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
6.
Defect mitigation in sub-20 nm patterning with high-chi, siliconcontaining block copolymers
机译:
利用高辛,含硅嵌段共聚物在20 nm以下的图案中减轻缺陷
作者:
Jan Doise
;
Geert Mannaert
;
Hyo Seon Suh
;
Paulina Rincon
;
Jai Hyun Koh
;
Ji Yeon Kim
;
Qingjun Zhu
;
Geert Vandenberghe
;
C. Grant Willson
;
Christopher J. Ellison
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
7.
An exploration of the use of fluoropolymers in photofiltration
机译:
探索含氟聚合物在光过滤中的用途
作者:
A. Wu
;
A. Xia
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
8.
Development of new maleimides applied to Spin-On Carbon Hardmask with characteristics of high heat resistance and good planarization.
机译:
研发出具有高耐热性和良好平面性的应用于旋转碳硬掩模的新型马来酰亚胺。
作者:
Junya Horiuchi
;
Takashi Makinoshima
;
Takashi Sato
;
Yasushi Miki
;
Masayoshi Ueno
;
Koichi Yamada
;
Masatoshi Echigo
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
9.
Bridging the defect gap in EUV photoresist
机译:
弥合EUV光刻胶中的缺陷间隙
作者:
T. Kohyama
;
Fumiya Kaneko
;
Alketa Gjoka
;
Jad Jaber
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
10.
Filter technology developments to address defectivity in leading-edge resists
机译:
滤波器技术的发展,以解决领先的抗蚀剂缺陷
作者:
T. Kohyama
;
F. Kaneko
;
K. Miura
;
A. Gjoka
;
J. Jaber
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
11.
New Silicon Hard Mask Material Development for sub 5 nm Node
机译:
5纳米以下节点的新型硅硬掩模材料开发
作者:
Tomoaki Seko
;
Tatsuya Kasai
;
Ryuuichi Serizawa
;
Satoshi Dei
;
Tatsuya Sakai
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
12.
Application of Downstream Plasma Generated Radical Methylation Treatment to Passivate Amorphous Si Surface from TMAH Etching During Lithography Process
机译:
下游等离子体生成自由基甲基化处理在光刻工艺中通过TMAH蚀刻钝化非晶硅表面的应用
作者:
Qi Zhang
;
Haochen Li
;
Xinliang Lu
;
Ting Xie
;
Hua Chung
;
Shawming Ma
;
Michael Yang
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
13.
Expanding the lithographer’s toolkit to reduce variability: Filtration Considerations
机译:
扩展光刻者的工具包以减少可变性:过滤注意事项
作者:
V. Goel
;
A. Wu
;
J. Braggin
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
14.
Understanding photoacid generator distribution at the nanoscale using massive cluster secondary ion mass spectrometry
机译:
使用大规模簇二次离子质谱法了解纳米级的光酸产生剂分布
作者:
Xisen Hou
;
Mingqi Li
;
Michael J. Eller
;
Stanislav V. Verkhoturov
;
Emile A. Schweikert
;
Peter Trefonas
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
15.
Modeling of novel resist technologies
机译:
新型抗蚀剂技术的建模
作者:
Luke Long
;
Andrew Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
16.
Evolution of Lithographic Materials Enabling the Semiconductor Industry
机译:
光刻材料的发展推动了半导体产业的发展
作者:
James W Thackeray
;
Cheng Bai Xu
;
James F. Cameron
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
17.
Ultra-thin Conformal Coating for Spin-on Doping Applications
机译:
适用于旋涂掺杂应用的超薄保形涂层
作者:
Mingqi Li
;
Bhooshan C. Popere
;
Peter Trefonas
;
Andrew T. Heitsch
;
Ratchana Limary
;
Reika Katsumata
;
Yuanyi Zhang
;
Rachel A. Segalman
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
18.
ToF-SIMS Analysis of Antimony Carboxylate EUV Photoresists
机译:
羧酸盐EUV光刻胶的ToF-SIMS分析
作者:
Michael Murphy
;
Shaheen Hasan
;
Steven Novak
;
Greg Denbeaux
;
Robert L. Brainard
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
19.
Mitigation of Line Edge Roughness and Line Width Roughness in Block Copolymer Directed Self-Assembly through Polymer Composition and Molecular Weight Manipulation
机译:
通过聚合物组成和分子量控制缓解嵌段共聚物定向自组装中线边缘粗糙度和线宽粗糙度
作者:
Jakin B. Delony
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
20.
Block Copolymer Line Roughness and Annealing Kinetics as a Function of Chain Stiffness
机译:
嵌段共聚物的线粗糙度和退火动力学与链刚度的关系
作者:
Caleb L. Breaux
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
21.
Multiscale approach for modeling EUV patterning of chemically amplified resist
机译:
用于化学放大抗蚀剂EUV图案建模的多尺度方法
作者:
Hyungwoo Lee
;
Muyoung Kim
;
Junghwan Moon
;
Sungwoo Park
;
Byunghoon Lee
;
Changyoung Jeong
;
Maenghyo Cho
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
22.
Area-Selective Atomic Layer Deposition of Dielectric-on-Dielectric for Cu/Low-k Dielectric Patterns
机译:
Cu / Low-k介电图案的介电体上介电体的区域选择性原子层沉积
作者:
Tzu-Ling Liu
;
Stacey F. Bent
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
23.
Start-up performance and pattern defectivity improvement using 2 nm rated Nylon filter developed with lithography filtration expertise
机译:
使用具有光刻过滤专业知识的2 nm额定尼龙过滤器,可提高启动性能并改善图案缺陷性
作者:
Toru Umeda
;
Eric Shiu
;
Takehito Mizuno
;
Hisashi Nakagawa
;
Tetsuya Murakami
;
Shuichi Tsuzuki
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
24.
Contact hole shrink of 193nm NTD immersion resist
机译:
193nm NTD沉浸抗蚀剂的接触孔收缩
作者:
Joshua Kaitz
;
Janet Wu
;
Vipul Jain
;
Iou-Sheng Ke
;
Mingqi Li
;
Amy Kwok
;
James Park
;
Jong Park
;
Jin Wuk Sung
;
Cong Liu
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
25.
The hidden tail of low energy electrons in EUV lithography
机译:
EUV光刻中低能电子的隐藏尾巴
作者:
Roberto Fallica
;
Seyed Javid Rezvani
;
Stefano Nannarone
;
Sergei Borisov
;
Danilo De Simone
;
Sergey Babin
;
Gian Lorusso
;
Geert Vandenberghe
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
26.
High Temperature Spin on Carbon Materials with Excellent Planarization and Chemical Vapor Deposition Compatibility
机译:
具有出色的平面化和化学气相沉积兼容性的碳材料高温自旋
作者:
Keren Zhang
;
Li Cui
;
Shintaro Yamada
;
Jim Cameron
;
Sabrina Wong
;
Lawrence Chen
;
Dan Greene
;
Suzanne Coley
;
Joshua Kaitz
;
Iou-Sheng Ke
;
Bhooshan Popere
;
Paul LaBeaumea
;
Benjamin Foltz
;
Lei Zhang
;
Kenneth Kearns
;
Johnpeter Ngunjiri
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
27.
Robustness of Interactive Pattern Fidelity Error as a quality metric for integrated patterning
机译:
交互式图案保真度错误的鲁棒性作为集成图案的质量指标
作者:
Soichiro Okada
;
Shinji Kobayashi
;
Satoru Shimura
;
Masashi Enomoto
;
Shota Yoshimura
;
Kiyohito Ito
;
Shinya Morikita
会议名称:
《》
|
2019年
28.
Oligomers of MORE: Molecular Organometallic Resists for EUV
机译:
更多的低聚物:EUV的分子有机金属抗性
作者:
Shaheen Hasan
;
Michael Murphy
;
Maximilian Weires
;
Steven Grzeskowiak
;
Greg Denbeaux
;
Robert L. Brainard
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
29.
Radical sensitive Zinc-based nanoparticle EUV photoresists
机译:
自由基敏感的锌基纳米粒子EUV光刻胶
作者:
Kou Yang
;
Hong Xu
;
Kazunori Sakai
;
Vasiliki Kosma
;
Emmanuel P. Giannelis
;
Christopher K. Obera
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
30.
Kinetics of Defect Annihilation in Chemo-Epitaxy Directed Self-Assembly
机译:
化学外延定向自组装中的An灭动力学。
作者:
Jiajing Li
;
Paulina Rincon-Delgadillo
;
Hyo Seon Suh
;
Geert Mannaert
;
Paul F. Nealey
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
31.
Pattern defect reduction for chemo-epitaxy DSA process
机译:
化学外延DSA工艺的图案缺陷减少
作者:
Makoto Muramatsu
;
Takanori Nishi
;
Gen You
;
Yasuyuki Ido
;
Takahiro Kitano
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
32.
Improved Hemicellulose Spin On Carbon Hardmask
机译:
改进的半纤维素旋转碳硬掩模
作者:
Kazuyo Morita
;
Kimiko Yamamoto
;
Hiroki Tanaka
;
Yasuaki Tanaka
;
Masahiko Harumoto
;
Yuji Tanaka
;
Chisayo Nakayama
;
You Arisawa
;
Tomohiro Motono
;
Harold Stokes
;
Masaya Asai
;
and Charles Pieczulewski
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
33.
Towards Pure Carbon- Ultra high carbon fullerene based spin-on organic hardmasks
机译:
迈向纯碳-超高碳富勒烯基旋涂式有机硬掩模
作者:
A. G. Brown
;
G. Dawson
;
A. McClelland
;
T. Lad
;
W. Montgomery
;
Alex P.G. Robinson
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
34.
Advanced EUV negative tone resist and underlayer approaches exhibiting sub-20nm half-pitch resolution
机译:
先进的EUV负性抗蚀剂和底层方法具有低于20nm的半间距分辨率
作者:
Thomas Gädda
;
Nguyen Dang Luong
;
Markus Laukkanen
;
Kimmo Karaste
;
Oskari Kähkönen
;
Emilia Kauppi
;
Dimitrios Kazazis
;
Yasin Ekinci
;
Juha Rantala
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
35.
Micro-phase Separation Behavior Study of the Same System of a Novel Block Copolymer (PS-b-PC)
机译:
新型嵌段共聚物(PS-b-PC)相同体系的微相分离行为研究
作者:
Baolin Zhang
;
Weichen Liu
;
Zhengping Zhang
;
Lingkuan Meng
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
36.
A new tailored point-of-use filter to reduce immersion lithography downtime and defects
机译:
量身定制的新型使用点滤波器,可减少浸没式光刻的停机时间和缺陷
作者:
Aiwen Wu
;
Annie Xia
;
Hareen Bayana
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
37.
Charge dissipation by use of a novel aqueous based quaternary ammonium compound for use in electron beam lithography on non-conductive substrates
机译:
通过使用新型的水基季铵化合物消散电荷,用于非导电衬底上的电子束光刻
作者:
Lopez Gerald
;
de Villafranca Glen
;
Shao Grant
;
Zhang Meiyue
;
Thompson Andrew
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
38.
Improvement of dual insolubilization resist performance through the incorporation of various functional units
机译:
通过结合各种功能单元来改善双重不溶性抗蚀剂的性能
作者:
Satoshi Enomoto
;
Takumi Yoshino
;
Kohei Machida
;
Takahiro Kozawa
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
39.
Roughness Power Spectral Density as a Function of Aerial Image and Basic Process / Resist Parameters
机译:
粗糙度功率谱密度随航拍图像和基本过程/抗力参数的变化
作者:
Charlotte Cutler
;
Choong-Bong Lee
;
James W. Thackeray
;
Peter Trefonas
;
John Nelson
;
Jason DeSisto
;
Rochelle Rena
;
Chris Mack
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
40.
Multi-trigger resist – Novel synthesis improvements for high resolution EUV lithography
机译:
多触发抗蚀剂–高分辨率EUV光刻的新型合成改进
作者:
G. O’Callaghan
;
C. Popescu
;
A McClelland
;
D Kazazis
;
J Roth
;
W Theis
;
Y Ekinci
;
Alex P.G. Robinson
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
41.
Imaging Behavior of Highly Fluorinated Molecular Resists under Extreme UV Radiation
机译:
极紫外辐射下高氟化分子抗蚀剂的成像行为
作者:
Hyun-Taek Oh
;
Seok-Heon Jung
;
Jeong-Seok Mun
;
Jin-Kyun Lee
;
Kanghyun Kim
;
Sangsul Lee
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
42.
Development of metal organic cluster EUV photoresists
机译:
金属有机团簇EUV光刻胶的开发
作者:
Kazunori Sakai
;
Seok-Heon Jung
;
Wenyang Pan
;
Emmanuel P. Giannelis
;
Christopher K. Ober
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
43.
Selective spin-on deposition of polymers on heterogeneous surfaces
机译:
聚合物在非均质表面上的选择性旋涂沉积
作者:
Yuanyi Zhang
;
Colton DAmbra
;
Reika Katsumata
;
Rachel A. Segalman
;
Craig J. Hawker
;
Christopher M. Bates
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
44.
Accelerate the analysis and optimization of lamellar BCP process using machine learning.
机译:
使用机器学习加速层状BCP工艺的分析和优化。
作者:
A.Derville
;
S.Martinez
;
G.Gey
;
J.Baderot
;
G.Bernard
;
X.Chevalier
;
J.Foucher
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
45.
Exploration of EUV-based self-aligned multipatterning options targeting pitches below 20 nm
机译:
探索基于EUV的自对准多重图案选项,目标间距小于20 nm
作者:
S. Decoster
;
F. Lazzarino
;
D. Vangoidsenhoven
;
V. M. B. Carballo
;
A.-H. Tamaddon
;
E. Kesters
;
C. Lorant
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
46.
Influence of PDI and Composition Ratio for Micro Phase Separation about PS-b-PMMA Block Copolymer
机译:
PDI和组成比对PS-b-PMMA嵌段共聚物微相分离的影响
作者:
Terumasa Kosaka
;
Ryota Matsuki
;
Ryosuke Ogaki
;
Yukio Kawaguchi
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
47.
Phase behavior of polymer blend materials for polystyrene-bpolycarbonate (PS-b-PC) block copolymers and corresponding homopolymer polystyrene
机译:
聚苯乙烯-聚碳酸酯(PS-b-PC)嵌段共聚物和相应的均聚物聚苯乙烯的聚合物共混材料的相行为
作者:
Weichen Liu
;
Baolin Zhang
;
Libin Zhang
;
Xiaobin He
;
Yayi Wei
;
Xin Wu
;
Junyan Dai
;
Ruicheng Ran
;
Guoping Mao
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
48.
Self-Aligned Fin Cut Last Patterning Scheme for Fin Arrays of 24 nm Pitch and Beyond
机译:
24纳米间距及以上的鳍片阵列的自对准鳍片切割最后构图方案
作者:
S. Baudot
;
A. Soussou
;
A. P. Milenin
;
T. Hopf
;
S. Wang
;
P. Weckx
;
B. Vincent
;
J. Ervin
;
S. Demuynck
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
49.
Study of outgassing from the ArF CA resist during ArF (193 nm) exposure
机译:
研究ArF(193 nm)暴露期间ArF CA抗蚀剂的脱气
作者:
Hiroko MINAMI
;
Yoko MATSUMOTO
;
Atsushi SEKIGUCHI
;
Tomoki NISHINO
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
|
2019年
50.
PSCARTM optimization to reduce EUV resist roughness with sensitization using Resist Formulation Optimizer (RFO)
机译:
使用抗性配方优化器(RFO)进行PSCARTM优化以降低增敏度的EUV抗蚀剂粗糙度
作者:
Seiji Nagahara
;
Cong Que Dinh
;
Gosuke Shiraishi
;
Yuya Kamei
;
Kathleen Nafus
;
Yoshihiro Kondo
;
Michael Carcasi
;
Yukie Minekawa
;
Hiroyuki Ide
;
Yuichi Yoshida
;
Kosuke Yoshihara
;
Ryo Shimada
;
Masaru Tomono
;
Kazuhiro Takeshita
;
Serge Biesemans
;
Hideo Nakashima
;
Danilo De Simone
;
John S. Petersen
;
Philippe Foubert
;
Peter De Bisschop
;
Geert Vandenberghe
;
Hans-Jürgen Stock
;
Balint Meliorisz
会议名称:
《Advances in Patterning Materials and Processes XXXVI》
意见反馈
回到顶部
回到首页