Thin films; Substrates; Pulsed lasers; Deposition; Oxides; Fluorides; Ferroelectric materials; Phase shift circuits; Thickness; Spectroscopy; Interfaces; Physical properties; Composite materials; Electromagnetic properties; Electric fields; Backscattering;
机译:脉冲激光沉积沉积在Pt /(001)MgO衬底上的(Na_(0.5)K_(0.5))NbO_3-BaZrO_3-(Bi_(0.5)Li_(0.5))TiO_3薄膜的铁电性能
机译:NaNbO_3缓冲层的脉冲激光沉积沉积在Pt /(001)MgO衬底上的(Na_(0.5)K_(0.5))NbO_3基薄膜的铁电性能
机译:脉冲激光沉积沉积在GaN衬底上的铈改性钛酸铋铋薄膜的生长和铁电特性
机译:脉冲激光沉积在氧化物和氟化物衬底上沉积的铁电薄膜的分析
机译:p型氟化钡铜,氟化钡铜硒,氟化钡铜碲和n型氧化锌铟宽带隙半导体的脉冲激光沉积和薄膜特性。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:研究更新:通过脉冲激光沉积在硅上沉积的外延pb0.9La0.1(Zr0.52Ti0.48)O3弛豫铁电薄膜的储能密度和能量效率得到提高