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【24h】

Large Area Sputtered Al_2O_3 Films for High Mobility AM-TFT Backplanes on PVD Array System PiVot 55kVi~2

机译:PVD阵列系统PiVot 55kVi〜2上用于高迁移率AM-TFT背板的大面积溅射Al_2O_3膜

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摘要

The production worthiness of sputtered Al_2O_3 barrier films on Gen 8.5 substrates using rotary targets on PVD array system PiVot is demonstrated in order to provide increased stability to IGZO AM-OLED backplanes. The achieved Al_2O_3 layer properties and uniformity illustrate the advantages of using rotary technology.
机译:为了在IGZO AM-OLED背板上提供更高的稳定性,证明了在PVD阵列系统PiVot上使用旋转靶在Gen 8.5衬底上溅射Al_2O_3势垒膜的生产价值。所获得的Al_2O_3层特性和均匀性说明了使用旋转技术的优势。

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