机译:微波等离子体化学处理后的硅(100)晶体原子清洁表面的形态稳定性
机译:微波等离子体化学处理后的硅(100)晶体原子清洁表面的形态稳定性
机译:微波离子刻蚀作用下硅(100)晶体的表面形态不稳定性
机译:低吸附量的微波等离子体微处理对硅(100)晶体表面纳米形态的影响
机译:现成的InSb(100),(111)B和GCIB处理的InSb(111)B表面的原子氢清洗
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:寡脱氧核糖核苷酸单层的受控负载到未氧化的晶体硅上;基于荧光的表面覆盖率和杂交效率测定;原子力显微镜对过程进行并行成像
机译:单晶Pt(111),Pt(100)和Pt(110)电极中表面原子结构与可逆氢吸附-解吸过程的相关性原子表面结构与单晶氢可逆吸附-解吸之间的相关性晶体Pt(111),Pt(100)和Pt(110)电极
机译:改进的碳化硅晶体从原子平面生长。