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机译:双前体LPCVD沉积的MEMS用多晶3C-SiC薄膜
silicon carbide; LPCVD; chemical vapor deposition; dual precursors; MEMS; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; SILICON-CARBIDE; LOW-PRESSURE; RESIDUAL-STRESS; SIC FILMS; MODULUS; GROWTH;
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机译:LPCVD沉积的用于射频MEMS的掺杂多晶3C-SiC薄膜
机译:以1,3-二硅丁烷和二氯硅烷为前体的大型LPCVD反应器中多晶3C-SiC薄膜的应力控制
机译:LPCVD沉积的氮掺杂膜膜的3C-SiC薄膜用于MEMS应用
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机译:用于M / NEMS应用的3C-SiC缓冲层上沉积多晶AlN薄膜的特征