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机译:DC氧控溅射制备低氧透过率WO3-x纳米晶薄膜的光学性质
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机译:通过DC磁控溅射制备的纳米晶WO3-X薄膜氧空位的重要性,实现高光电化学效率
机译:沉积过程中射频功率和氧气流量对反应磁控溅射法制备氧化铜薄膜透光率的影响
机译:氧气流速对反应磁控溅射制备的氧化铜薄膜结构,光学和电性能的影响
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:直流磁控溅射制备纳米晶WO3和WO3-x薄膜的光学性质