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王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时;
沈阳航空工业学院,机械与汽车学院,辽宁,沈阳,110034;
中山大学,物理科学与工程技术学院,广东,广州,510275;
东北大学,机械及自动化学院,辽宁,沈阳,110004;
中国科学院广州能源研究所,广东,广州,510070;
二氧化钛薄膜; 直流反应磁控溅射; 氧流量; 反射率;
机译:室温下通过直流反应磁控溅射制备的具有优势{001}面的锐钛矿型TiO2薄膜:氧缺陷和可见光增强的光催化行为
机译:退火温度对染料敏化太阳能电池直流反应磁控溅射制备TiO2纳米棒薄膜的影响
机译:直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的沉积参数和Fe掺杂对光催化活性的影响
机译:Ar / O2气体流量比对直流磁控溅射制备的TiO2薄膜光催化效率的影响
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:TiO2光催化薄膜的高速低温直流脉冲磁控溅射:重复频率的影响
机译:不同氮流量比对反应磁控溅射制备(Hf:N)-DLC薄膜光学性质的影响
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:在真空状态下的光学薄膜内部的膜状零反应性直流磁控溅射装置用于高级真空
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
机译:制备高硬度TiO2薄膜和增加硬度的TiO2薄膜的方法
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