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NANOMETROLOGY NIST scatterfield imaging 'sees' nanometer-scale features

机译：纳米计量学NIST散射场成像“看到”纳米级特征

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来源
《Laser Focus World: The Magazine for the Photonics & Optoelectronics Industry》 |2016年第1期|共2页
作者
Overton Gail;
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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类光学;
关键词

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专利

1. NANOMETROLOGY NIST scatterfield imaging 'sees' nanometer-scale features [J] . Overton Gail Laser Focus World: The Magazine for the Photonics & Optoelectronics Industry . 2016,第1期

机译：纳米计量学NIST散射场成像“看到”纳米级特征
2. Nanoscale Metrology: Scatterfield optical imaging enables sub-10 nm dimensional metrology [J] . RICHARD M. SILVER Laser Focus World: The Magazine for the Photonics & Optoelectronics Industry . 2009,第1期

机译：纳米级计量：散射场光学成像可实现10 nm以下的计量
3. Scatterfield microscopy for extending the limits of image-based optical metrology [J] . Richard M. Silver, Bryan M. Barnes, Ravikiran Attota, Applied Optics . 2007,第20期

机译：散射场显微镜技术扩展了基于图像的光学计量学的范围
4. Order and defectivity nanometrology by image processing and analysis of sub-20 nm BCPs features for lithographic applications [C] . C. Simao, D. Tuchapsky, W. Khunsin, Dimensional optical metrology and inspection for practical applications III . 2014

机译：通过图像处理和亚20 nm BCPs功能的图像处理和分析，对光刻应用进行有序和缺陷纳米计量学
5. Feature extraction from the image of straight-edge objects and dynamic image/feature classification using non-iterative neural networks. [D] . Chanekasit, Sirikanlaya. 2004

机译：使用非迭代神经网络从直边物体的图像中提取特征并进行动态图像/特征分类。
6. Design of angle-resolved illumination optics using nonimaging bi-telecentricity for 193 nm scatterfield microscopy [O] . Martin Y. Sohn, Bryan M. Barnes, Richard M. Silver -1

机译：使用非成像双远心度设计用于193 nm散射场显微镜的角度分辨照明光学器件
7. Order and defectivity nanometrology by image processing and analysis of sub-20 nm BCPs features for lithographic applications [O] . Simao, Claudia, Tuchapsky, D., Khunsin, W., 2016

机译：通过图像处理和亚20 nm BCPs功能的图像处理和分析，对光刻应用进行有序和缺陷纳米计量学

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