机译:使用莫尔条纹的纳米压印光刻中的20纳米以下对准
X-RAY-LITHOGRAPHY; IMPRINT LITHOGRAPHY; TRANSISTORS; SYSTEM; FABRICATION;
机译:使用莫尔条纹的纳米压印光刻中的20纳米以下对准
机译:用于纳米压印光刻的高精度对准的莫尔方法
机译:倾斜莫尔条纹对邻近光刻中对准精度的影响
机译:在数字全能中使用Moire Fringes进行光学对准
机译:光学技术在移动表面测量中的应用(莫尔条纹轮廓图,条纹分析)。
机译:纳米压印光刻初始层选择的指导图表
机译:高效闪光光栅的制造与复制灰度电子束光刻和UV纳米压印光刻
机译:RF mEms谐振器性能改进的制造工艺变化:适形接触光刻,莫尔条纹对准和氯干蚀刻