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机译:无掩模微等离子体刻蚀的多层悬臂残余应力引起的变形研究
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机译:多层微机电系统悬臂装置中残余膜应力变形的缓解
机译:用于无掩模纳米级材料蚀刻的微等离子体装置阵列的开发
机译:沉积过程中残余应力引起的MEMS结构自组装的实验研究。
机译:用于无掩模纳米级刻蚀的微介质阻挡放电反应器SiNx薄膜的制备
机译:考虑塑性变形变化与方向性的数值模拟遗迹分布估计:地震剩余变形分布研究,第3部分