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机译:使用深RIE和光刻胶喷涂为光开关应用制造精确垂直的侧壁
机译:使用深RIE和光刻胶喷涂为光开关应用制造精确垂直的侧壁
机译:采用深度RIE(DRIE)制造的高级光纤交换机
机译:表面安装器件阵列的制造32.768 kHz石英音叉型晶体:光刻和选择性蚀刻石英音叉谐振器阵列,并进行随后的光刻胶喷涂
机译:深度RIE技术中的垂直轮廓和CD损失控制MEMS制造应用
机译:使用纳米球面光刻和RIE刻蚀制造二维纳米结构阵列及其在光学器件中的应用。
机译:具有Taox的RRAM的垂直3D结构的侧壁电极氧化自定位切换区域
机译:具有垂直侧壁和降低粗糙度的亚微硅波导的制造,可实现低损耗应用