...
退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:可制造的源掩模优化
Himel MD; Carriere JTA; Schellenberg FM; Granik Y;
机译:针对光刻源的模糊和眩光的鲁棒混合源和掩模优化
机译:使用多极源表示法进行有效的源掩模优化
机译:结合物理抗蚀剂的源掩模优化模型和可制造性约束
机译:针对大面积增材制造工艺优化的掩模图像投影
机译:优化临床操作作为全球急诊医学倡议加纳库马西的一部分:精益制造校长的应用低资源卫生系统
机译:稳健的源和掩模优化补偿计算光刻中的掩模形貌效应
机译:在光学曝光设备中用于优化光源轮廓的方法以及其中使用这种优化方法设置光源轮廓的光学曝光方法,特别是当光倾斜地朝向掩模投射时
机译:通过改变照明源和倍率的强度和形状以及遮罩衍射阶次来优化遮罩源和遮罩
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。