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机译:FBAR应用在Mo电极上的压电AIN薄膜的两步反应溅射
reactive sputtering; rocking curve; residual stress; aluminum nitride;
机译:FBAR应用在Mo电极上的压电AIN薄膜的两步反应溅射
机译:FBAR应用在Mo电极上的压电AIN薄膜的两步反应溅射
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机译:低应力AIN压电薄膜的DC磁控反应溅射MEMS应用
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:用于压电应用的氮化铝(002)薄膜的反应溅射:综述
机译:氮化铝的反应溅射(002)压电应用薄膜:综述
机译:基体组成对反应溅射alN薄膜压电响应的影响;薄固体薄膜