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机译:利用掩膜对铝进行电化学刻蚀制备高纵横比的现场控制隧道坑
机译:利用掩膜对铝进行电化学刻蚀制备高纵横比的现场控制隧道坑
机译:用于制备高纵横比石墨烯微悬臂的双面掩模和应力释放蚀刻
机译:利用ICP干法刻蚀转移全息抗蚀剂掩模制造高纵横比的熔融石英亚微米光栅
机译:铝箔电化学蚀刻制造均匀方形隧道坑
机译:铝的电化学隧道刻蚀中金属钝化控制的研究(腐蚀,钝化,点蚀电位,铝)。
机译:电化学放电刻蚀快速制备高纵横比的铂微探针
机译:使用飞秒激光脉冲和化学蚀刻制造高纵横比,微流体通道和隧道