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机译:SiC(0001)中氢吸附单层石墨烯中间隙状态的带隙和进化的增强(0001)
Tohoku Univ WPI Adv Inst Mat Res Sendai Miyagi 9808577 Japan;
Tohoku Univ Dept Phys Sendai Miyagi 9808578 Japan;
Tohoku Univ Dept Phys Sendai Miyagi 9808578 Japan;
Tohoku Univ Ctr Spintron Res Network Sendai Miyagi 9808577 Japan;
Tohoku Univ WPI Adv Inst Mat Res Sendai Miyagi 9808577 Japan;
机译:SiC(0001)中氢吸附单层石墨烯中间隙状态的带隙和进化的增强(0001)
机译:SiC(0001)上外延石墨烯中的缓冲层引起的带隙和表面低能光子的声子散射
机译:在4H-SiC(0001)上增强氢插入准防独立式单层石墨烯的拉曼光谱(0001)
机译:衬底步骤和单层双层结的影响在4H-SiC(0001)上的外延石墨烯中的电子输送
机译:电子带结构影响单层,双层和杂化石墨烯结构。
机译:具有可逆和可调宽带隙的氢化单层石墨烯及其场效应晶体管
机译:通过应变工程调整类石墨烯蜂窝结构中SiC,GeC和SnC单层的间接-直接带隙跃迁:准粒子GW研究