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机译:背景技术压力为石墨烯单晶在铜箔上生长:氧分压的关键作用
Shaoxing Univ Lab Low Dimens Carbon Mat Phys Dept Shaoxing 312000 Peoples R China;
Shaoxing Univ Lab Low Dimens Carbon Mat Phys Dept Shaoxing 312000 Peoples R China;
Shaoxing Univ Lab Low Dimens Carbon Mat Phys Dept Shaoxing 312000 Peoples R China;
Soochow Univ Jiangsu Key Lab Carbon Based Funct Mat &
Devices Collaborat Innovat Ctr Suzhou Nano Sci &
Technol Inst Funct Nano &
Soft Mat FUNSOM Suzhou 215123 Peoples R China;
Hangzhou Normal Univ Dept Phys Hangzhou 310036 Zhejiang Peoples R China;
机译:背景技术压力为石墨烯单晶在铜箔上生长:氧分压的关键作用
机译:通过光学浮区技术在不同的氧分压下生长Nd:Cr:YVO_4单晶以控制铬的氧化态
机译:通过在无氧条件下退火处理通过退火处理铜箔上的四面形单晶石墨烯片的不对称生长
机译:低压化学气相沉积法在铜箔上可控合成单晶单层石墨烯
机译:组成和氧分压对铝硅酸盐衍生聚集体的微观结构和结晶相演变的作用。
机译:氧和氢在高质量石墨烯生长的铜箔晶体取向转变中的作用
机译:氧气与氢在铜箔晶体取向转变中的作用,高质量的石墨烯生长