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机译:纯氧环境各自工作压力反应磁控溅射沉积的氧化镍膜的微观结构和光电性能
Ocean Univ China Inst Mat Sci &
Engn 238 Songling Rd Qingdao 266100 Peoples R China;
Ming Chi Univ Technol Dept Mat Engn Taipei 243 Taiwan;
Ming Chi Univ Technol Dept Mat Engn Taipei 243 Taiwan;
Natl Taiwan Univ Inst Mat Sci &
Engn Taipei 106 Taiwan;
Natl Taiwan Univ Inst Mat Sci &
Engn Taipei 106 Taiwan;
Ocean Univ China Inst Mat Sci &
Engn 238 Songling Rd Qingdao 266100 Peoples R China;
NiO films; p-type conductivity; Optical emission spectroscopy; Optoelectronic properties;
机译:纯氧环境各自工作压力反应磁控溅射沉积的氧化镍膜的微观结构和光电性能
机译:在不同氧分压下沉积的直流反应堆磁控溅射氧化铜薄膜的性能变化
机译:反应磁控溅射在不同氧分压下沉积的相纯M_1-VO_2薄膜的室温光学常数和带隙演化
机译:氧含量对氧离子束辅助脉冲反应磁控溅射沉积的Al_2O_3薄膜微结构和光学性能的影响
机译:研究ha和铬的添加对沉积在镍基高温合金上的直流磁控溅射β-镍-铝粘结涂层的微观结构和短期氧化性能的影响。
机译:反应堆磁控溅射沉积p型缺铜Cu Cr0.95-xMg0.05 O2薄膜的光电性能
机译:直流反应磁控溅射沉积的TiO2薄膜的氧分压依赖性