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机译:纳米复印件对化学机械抛光抛光深度,垫,浆料和层间胶片依赖性的影响
CMP; Nanotopography; Removal depth; Polishing pad; Slurry; Wafer manufacturing; Power spectral density;
机译:纳米形貌对化学机械抛光的影响-抛光深度,抛光垫,浆料和中间膜的依赖性
机译:纳米复印件对化学机械抛光抛光深度,垫,浆料和层间胶片依赖性的影响
机译:纳米复印件对化学机械抛光抛光深度,垫,浆料和层间胶片依赖性的影响
机译:化学机械抛光过程中抛光垫和淤泥的相对摩擦力贡献
机译:用于微电子应用中的多晶硅,二氧化硅和氮化硅膜化学机械抛光的新型浆料配方和相关机理。
机译:浆料组成对金刚石薄膜化学机械抛光的影响
机译:纳米复印件对浅沟槽隔离化学机械抛光的表面活性剂加入对烟雾二氧化硅和二氧化硅浆料的依赖性