...
首页> 外文期刊>電子情報通信学会技術研究報告. シリコン材料·デバイス. Silicon Devices and Materials >[招待講演]チャージポンピング法による単一MOS界面トラップの個別検出と解析-原子スケールの視点で新たなトラップ物理を目指して
【24h】

[招待講演]チャージポンピング法による単一MOS界面トラップの個別検出と解析-原子スケールの視点で新たなトラップ物理を目指して

机译:[邀请的谈话]通过充电泵送方法的单个MOS界面陷阱的个人检测和分析 - 针对原子尺度视角的新陷阱物理

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

チャージポンピング(CP)法で,単一のMOS界面トラップを個別に検出して評価する究極的な手法を用いて,全く新しい視点でトラップ物理の解明を進めた.従来のCP理論の根幹であるトラップ1個当たりの最大CP電流I_(CPMAX)=fq(fはゲートパルス周波数,qは電子電荷)は誤りであり,0~afqの様々な値をとることを明らかにした.これは,界面トラップ1個当たり2つの電子準位が関与しており,この各準位のエネルギー位置がバンドギャップ内で様々に異なっていることに起因していることを実証した.このことは界面トラップの起源がP_bセンターであることを支持している.また,単一トラップのエネルギー準位密度分布(DOS)を導出し,P_(b0)センターのDOS と酷似していることを示すとともに,界面トラップのDOSはU字型とする定説に疑問を呈した.
机译:使用单独检测和评估单个MOS界面陷阱的最终方法,利用陷阱物理学来阐明电荷泵送(CP)方法。最大CP电流I_(CPMAX)= FQ(FQ)= FQ(FQ)= FQ(FQ)= FQ(FQ)是一个错误,并且0到AFQ的各种值是揭示错误的错误。这已参与每个界面陷阱的两个电子电平,并展示每个能量水平是由各种不同的不同Vandomaps引起的。这支持接口陷阱的原点是P_B中心。此外,在导出单个陷阱的能量水平密度分布(DOS)的同时,与P_(B0)中心的DOS非常相似,并且界面陷阱DOS问题是U形定义底部。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号