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【24h】

低電力、高性能LSIに向けたCMOSプロセス·デバイス技術開発-サブ100nm世代の課題と解決策

机译:CMOS工艺设备技术开发低功耗,高性能LSI-子100nM的产生挑战和解决方案

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摘要

今後の低電力、高性能LSIに向けて、サブ100nm世代で要求されるプロセス·デバイス技術にっいて、先端の微細CMOS技術による性能改善のシナリオ、ローリークなど多様化するデバイス要求、配線を含めたLSIのトータル性能の改善に向けた課題と取組みについて紹介する。
机译:对于未来的低功耗,高性能LSI,我们拥有多样化的设备要求,以及接线,例如尖端精细CMOS技术的性能改进,尖端精细CMOS技术的性能改进的场景,以及多样化的装置高性能LSI所需的技术。我们介绍了提高LSI总业绩的问题和举措。

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