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Evolved gas analysis for low-k films coated on Si wafers

机译：Si晶圆上涂覆的低k薄膜的进化气体分析

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来源
《ニュ-セラミックス》 |2001年第6期|共4页
作者
Machiko Ito; Yoshihiro Takai; Kazuhiko Ishikiriyama;
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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类硅酸盐工业;
关键词

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1. Evolved gas analysis for low-k films coated on Si wafers [J] . Machiko Ito, Yoshihiro Takai, Kazuhiko Ishikiriyama ニュ-セラミックス . 2001,第6期

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