高輝度真空紫外光源の開発と極端紫外光極微細分析技術への展開

摘要

波長882nmの近赤外超短パルスレーザーを基幹装置とし真空紫外（VUV）レーザーの開発を行っており、これまでにXeガス中で発生した第7高調波を光励起により生成したAr_2~*に注入し、2.4倍の増幅を確認した。またパルス幅はアルゴンガスの多光子電離を用いて計測が可能であることが示された。今後、励起に用いる近赤外レーザーを増強する予定であり、これにより126nm出力の増強が見込まれる。さらに、発生したVUV光を基本波とした波長変換による波長可変VUV-EUV光の実現を目指し、光脱離表面分析技術へと応用することにより、さらなる高空間分解·時間分解を有する極表面分析手法の開発へと展開する予定である。