真空紫外光で拓く環境調和型プロセス－高輝度真空紫外コヒーレント光源の開発とその応用技術の開発

摘要

VUV波長域ではArF{sup}*(λ=193 nm)，Xe{sub}2{sup}*(λ=172 nm)，F{sub}2(λ=157 nm)，Kr{sub}2{sup}*(λ=146 nm)，Ar{sub}2{sup}*(λ=126 nm)等のエキシマ媒質があり、電子ビーム励起あるいは放電励起のレーザーとして、あるいは誘電体バリア放電励起によるエキシマランプとして利用される。 我々のグループでは、VUV領域のコヒーレント光源としての希ガスエキシマレーザーあるいはインコヒーレント光源としての希ガスエキシマランプ光源の開発を行うと共に、それらVUV光の光プロセスへの応用技術開発を行ってきた。 本報告では、これまでのVUV光源開発ならびにVUV光応用プロセスにおける研究成果を述べると共に、現在進めている高輝度VUVコヒーレント光源開発プロジェクトについて紹介する。