...
首页> 外文期刊>Физика и техника полупроводников >Влияние облучения донами Не~+ на спектры фоточувствительности гетероструктур с квантовыми ямами и точками ln(Ga)As/GaAs
【24h】

Влияние облучения донами Не~+ на спектры фоточувствительности гетероструктур с квантовыми ямами и точками ln(Ga)As/GaAs

机译:的照射穿上效果不〜+与量子阱和ln(Ga)的作为/砷化镓点异质结构的光敏性光谱

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

Исследовано влияние ионной имплантации Не+ на спектры фоточувствительности гетероструктур с квантовыми ямами InGaAs/GaAs и квантовыми точками InAs/GaAs, выращенных методом газофазной МОС гидридной эпитаксии.
机译:研究了离子注入不+对InAs / GaAs量子凹坑的异质结构光敏性的影响,通过气相氢化物外延生长的InAs / GaAs量子坑。

著录项

  • 来源
  • 作者单位

    Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

    Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского 603600 Нижний Новгород Россия;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类 半导体物理学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号