公开/公告号CN100487864C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-05-13
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;
申请/专利号CN200610002667.0
申请日2006-01-26
分类号H01L21/20(20060101);C09K11/62(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人汤保平
地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号
入库时间 2022-08-23 09:02:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-03-25
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/20 授权公告日:20090513 终止日期:20140126 申请日:20060126
专利权的终止
2009-05-13
授权
授权
2007-09-26
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-08-01
公开
公开
机译: 用于生产砷化镓衬底晶片的掺杂砷化镓单晶的制备包括熔化砷化镓起始材料,然后使砷化镓熔化
机译: 用于近红外辐射的半导体光电阴极-包括透明的砷化镓铝镓层和电子发射砷化镓铟锡层
机译: 用于近红外辐射的半导体光电阴极-包括透明的砷化镓铝镓层和电子发射砷化镓铟锡层